历 (lì) «pasar por, experimentar»: significado, trazos y cómo se escribe
El carácter chino 历 se lee «lì» y significa pasar por, experimentar (经历); historia; calendario. Se escribe con 4 trazos y su radical es 厂. Es del nivel HSK 3 del programa oficial de 2025.
- HSK 3
- 4 trazos
- Radical 厂
- Fonosemántico
- Ver la tabla de radicales
La ficha en corto
- Significado
- pasar por, experimentar (经历); historia; calendario
- Pronunciación
- Nivel HSK
- HSK 3 · programa oficial de 2025
- Trazos
- 4
- Radical
- 厂 · acantilado, fábrica
- Descomposición
- ⿸厂力 · rodea por arriba y la izquierda
部件
De qué está hecho
Se combina: ⿸ — rodea por arriba y la izquierda.
Origen del carácter
calendario
Tipo: Fonosemántico
笔顺 · bǐshùn
Cómo se escribe
Cada casilla añade un trazo al anterior, en el orden canónico. No es un detalle de estilo: escrito en ese orden el carácter queda equilibrado, se escribe más deprisa y lo reconoce el teclado manuscrito del móvil.
- 1 Trazo 1
- 2 Trazo 2
- 3 Trazo 3
- 4 Trazo 4
Imprime esta página y practica sobre la cuadrícula: el primer recuadro lleva el modelo en gris y los otros dos están en blanco.
Practicar este carácter trazo a trazo en la herramienta de orden de trazos Verlo escrito con pincel y tinta en el taller de caligrafía
Ver el orden de los trazos ayuda, pero 历 se te queda grabado cuando lo escribes tú y alguien te corrige el trazo y el tono. Así se trabaja en las clases de chino de nivel intermedio, en Girona u online.
在哪儿
Dónde aparece en la web
No sale en las lecciones, pero sí en estas herramientas de la web.
Herramientas
同部首 · Radical 厂
Otros caracteres con el radical 厂
Comparten la misma pieza, así que suelen compartir también una parte del significado. Aprenderlos juntos cuesta mucho menos que uno a uno.
Datos de Make Me a Hanzi, derivados de Unihan y CJKlib, con los contornos de trazo de las tipografías Arphic. Las lecturas y las definiciones en español y en catalán son traducciones nuestras a partir de esa fuente.
El nivel HSK sale de la lista de caracteres del programa oficial del HSK 3.0 (CLEC, noviembre de 2025; documento en chino).